半導體 | 荷蘭將擴光刻機管制範圍，商務部：荷方應維穩產業鏈

荷蘭政府將擴大對部分光刻機生產商ASML光刻工具的出口許可要求

　　中國商務部昨表示，荷蘭在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍，中方對此表示不滿。

　　商務部網站刊登的新聞發言人回應稱，近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。

　　發言人又說，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

　　荷蘭政府上周五(6日)表示，將擴大對部分光刻機生產商艾司摩爾(ASML)光刻工具的出口許可要求，從而實際上從美國手中收回對這些工具的管制權，並使兩國的政策保持一致。涉及工具為ASML 1970i及1980i深紫外光(DUV)浸入式光刻工具。

撰文：經濟通中國組

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